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陽極氧化處理后的氧化層應該怎樣去除
- 作者:上海越匯金屬處理有限公司
- 更新時間:2024-11-25
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噴砂處理:鈦鑄件的噴砂處理一般選用白剛玉粗噴較好,噴砂處理的壓力要比非貴金屬者較小,一般控制在0.45Mpa以下。因為,噴射壓力過大時,砂粒沖擊鈦表面產(chǎn)生激烈火花,溫度升高可與鈦表面發(fā)生反應,形成二次污染,影響表面質(zhì)量。時間為15~30秒,僅去除鑄件表面的粘砂、表面燒結(jié)層和部分和陽極氧化層即可。其余的表面反應層結(jié)構(gòu)宜采用化學酸洗的方法快速去除。酸洗:酸洗能夠快速完全去除表面反應層,而表面不會產(chǎn)生其他元素的污染。HF—HCl系和HF—HNO3系酸洗液都可用于鈦的酸洗,但HF—HCl系酸洗液吸氫量較大,而HF—HNO3系酸洗液吸氫量小,可控制HNO3的濃度減少吸氫,并可對表面進行光亮處理,一般HF的濃度在3%~5%左右,HNO3的濃度在15%~30%左右為宜。
化學拋光:化學拋光是通過金屬在化學介質(zhì)中的陽極氧化還原反應而達到整平拋光的目的。其優(yōu)點是化學拋光與金屬的硬度、拋光處理面積與結(jié)構(gòu)形狀無關(guān),凡與拋光液接觸的部位均被拋光,不須特殊復雜設備,操作簡便,較適合于復雜結(jié)構(gòu)鈦義齒支架的拋光。但化學拋光處理的工藝參數(shù)較難控制,要求在不影響義齒精度的情況下能夠?qū)αx齒有良好的拋光處理效果。較好的鈦化學拋光液是HF和HNO3按一定比例配制,HF是還原劑,能溶解鈦金屬,起到整平作用,濃度<10%,HNO3起陽極氧化作用,防止鈦的溶解過度和吸氫,
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